現(xiàn)代光電技術(shù)是建立在綜合科學(xué)研究基礎(chǔ)上。它是以激光器和先進(jìn)的探測器為基礎(chǔ)、電光學(xué)技術(shù)、電子技術(shù)、微電子技術(shù)、精密機(jī)械技術(shù)和計算機(jī)技術(shù)等密切結(jié)合而形成的一項(xiàng)高技術(shù)。它是以大規(guī)模集成電路、大型芯片組件、微型電子器件、元器件和板件電路等組成的多功能系統(tǒng)。這些電子產(chǎn)品滲透到光電材料與元件，光學(xué)儀器，光信息（資訊）產(chǎn)業(yè)，光通訊產(chǎn)業(yè)， 光電顯示，激光器和激光應(yīng)用，光電附設(shè)及電子元件，SMT 表面貼裝，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，攝影器材，制藥，化工等行業(yè) 及科學(xué)領(lǐng)域中，而且這些元器件在相對濕度60%RH以上的潮濕空氣里，更容易吸濕。各種配件、元件還沒有使用就失效，嚴(yán)重地影響了裝備的可靠性。

隨著裝備不斷更新，各種新型先進(jìn)的高分子材料、橡膠和塑料制品配件及各種精密光學(xué)鏡面配件不斷得到應(yīng)用，這些器件、材料所要求貯存濕度范圍各不相同。如：

計算機(jī)用的各種磁盤、磁帶、相片、錄音帶和皮革制品要求濕度范圍在40%RH～55%RH；

精密的儀器、集成板件、半導(dǎo)體元器件、印刷電路板要求濕度范圍在30%RH～45%RH；

光學(xué)精密測量鏡頭：晶體、紅外和夜視鏡片所要求的濕度范圍在20%RH～35%RH；

精密電子組件BGA、LCD要求的濕度在15%RH以下。

由于上述配件沒有合適的貯存環(huán)境，經(jīng)調(diào)研：生霉、生霧、氧化腐蝕、金屬零件銹蝕、高分子材料變形、老化斷裂、電子器件失效等等嚴(yán)重影響了器件壽命。這些器件產(chǎn)品是新技術(shù)裝備的核心部分、價格昂貴，而因貯存、管理失效，不僅產(chǎn)生經(jīng)濟(jì)損失，如果應(yīng)用在國防軍事方面，甚至給部隊(duì)的戰(zhàn)斗力、生存力帶來不可挽回的軍事?lián)p失。

因此提高電子元器件及各種配件的可靠性、保證裝備的可維性和完好率，根據(jù)濕度范圍進(jìn)行分
類管理，建立一個恒溫恒濕存儲平臺來滿足各種精密配件和電子器件貯存的濕度環(huán)境要求是當(dāng)務(wù)之急。